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“超细二硅化钼”参数说明
“超细二硅化钼”详细介绍
微米二硅化钼粉（Details）：
MoSi2：≥99.9wt%；
APS：1μm
SSA：>17m2/g
密度：6.24g/cm3
松装密度：0.3g/cm3
形貌：球形
晶型：
颜色：灰色备注：可根据用户要求定制不同粒度的产品。制备方法：激光诱导化学气相沉积法（LICVD）
该方法是将原料置于真空或惰性气体保护的反应室中，原料表面经激光照射后，与入射的激光束相作用，原料吸收高能量激光束后迅速升温、蒸发形成气态，气态物质可直接冷凝沉积形成纳米微粒，气态物质也可在激光作用下分解后再形成纳米微粒。若反应室中有反应气体，则蒸发物可与反应气体发生化学反应，经过成核生长、冷凝后得到化合物的纳米粉体。整个过程基本上还是一个热化学反应和核生长的过程，该反应的特点是加热速率快，高温驻留时间短，迅速冷却，可以获得均匀超细粉体。
应用方向
1、发热元件；
2、集成电路；
3、高温抗氧化涂层；
4、高温结构材料；
5、电熔玻璃电极、鼓泡管、热偶保护管、气体取样管；
6、厚模电阻、导电抗氧化涂层。
MoSi2：≥99.9wt%；
APS：1μm
SSA：>17m2/g
密度：6.24g/cm3
松装密度：0.3g/cm3
形貌：球形
晶型：
颜色：灰色备注：可根据用户要求定制不同粒度的产品。制备方法：激光诱导化学气相沉积法（LICVD）
该方法是将原料置于真空或惰性气体保护的反应室中，原料表面经激光照射后，与入射的激光束相作用，原料吸收高能量激光束后迅速升温、蒸发形成气态，气态物质可直接冷凝沉积形成纳米微粒，气态物质也可在激光作用下分解后再形成纳米微粒。若反应室中有反应气体，则蒸发物可与反应气体发生化学反应，经过成核生长、冷凝后得到化合物的纳米粉体。整个过程基本上还是一个热化学反应和核生长的过程，该反应的特点是加热速率快，高温驻留时间短，迅速冷却，可以获得均匀超细粉体。
应用方向
1、发热元件；
2、集成电路；
3、高温抗氧化涂层；
4、高温结构材料；
5、电熔玻璃电极、鼓泡管、热偶保护管、气体取样管；
6、厚模电阻、导电抗氧化涂层。
